机械模具抛光达到的抛光效果是比较好

很多朋友都知道，模具抛光是为了更好地获得清洁的模具表面效果。同时，很多朋友都知道不同的模具抛光方法有不同的抛光效果。在不同的模具抛光方法中，机械模具抛光可以达到更好的抛光效果。

在模具抛光过程中，常用的模具抛光方法主要包括机械抛光、化学抛光、电火花超声波复合抛光、磁研磨抛光、电解抛光等。这些方法在模具抛光过程中具有不同的抛光效果。

使用机械抛光时，模具表面粗糙度可达到粗抛、半精抛、精抛等抛光程序Ra0.008 μm，这是一种可以达到镜面水平的抛光方法，因此主要用于光学模具的抛光过程。

当使用化学抛光时，在经过各种溶解后模具表面粗糙度一般可达到Ra10 μm。这种抛光工艺通常用于钢零件的抛光工艺。

使用电火花超声波复合抛光时，由于超声波振动和电脉冲腐蚀同时作用于工件表面，该抛光方法可快速降低模具表面粗糙度，一般可达1.6 μm。这种抛光方法常用于钣金切割后的抛光工艺。

当使用磁磨抛光时，由于磁磨在磁场作用下形成磨刷，然后通过磨刷进一步研磨工件，因此该模具抛光方法的抛光效果一般较好，磁磨抛光后，模具表面粗糙度一般可达到Ra0.1 μm。

电解抛光效果一般由抛光液决定，难以判断其具体的抛光精度效果，但可以肯定的是，电解抛光的抛光效果一般比机械抛光和磁性磨料差。